酸化物ターゲット

成膜加工

半導体などへの成膜試作でお困りにられたことはございませんか?
例えば……
「会社にはAuのターゲットが無いけど、今回だけ成膜してみたい。」
「今月中に成膜したいが、実験機を使えるのが来月になってから。」
「新しい材料の成膜を試したいが、チャンバーを汚染するので実験機の使用許可が下りなかった。」
そんな時は「当社」にお任せ下さい。
「当社」があなたに代わってスパッタリングによる試作品の成膜作業を致します。

酸化物スパッタリングターゲットの製造・販売も行っております。
実験・製品化時などスパッタリングターゲットでお困りのことが有れば、併せてお問い合わせ下さい。

■コーティングサービスの特徴

・支給基盤にご指定の成膜加工をいたします。
・特殊な材質の成膜。
・材料組成比の選択。
・実験機はあるが順番待ち等でなかなか使用できない場合。
・実験機はあるが用途が限定されている場合。
・高価なターゲットを少量しか使用しない場合。

■スパッタ装置の特徴

・低温高速マグネトロンスパッタ
・サイドスパッタ
・RF500W
・基盤加熱は300℃まで可能
・基盤サイズはφ200mm以内
・MFCにより反応性スパッタも可能

コーティングサービスの幅広い用途

半導体分野

IC・ハイブリットICの電極 配線絶縁層・抵抗体

Au、Pt、Ag、Cu、Cr、Al、Ta、Ni-Cr、
TiN、TiC、ITO、SiO2、Al2O3、SiAlON
電子部品分野 ジョセフソン素子・太陽電池
オプトエレクトロニクス
Au、Pt、Ag、Cu、Cr、Al、Ni-Ti、Mo、
MoSi、Co、Cr、P
表示素子分野 LCD・ELLED・FL MgF2、TiO2、ITO、Al2O3、ZrO2
磁気記録分野 磁気ヘッド・磁気ディクス・光ディスク Co、Cr、Te-Fe、Fe、TaN、Ta2O5、Ni、
Tb-Fe
光学分野 レンズ・ミラー・フィルター Al、Cr、Ag、TiN、ITO、SiO2、Al2O3、
MgF2、TiO2
表面処理分野 装飾用・潤滑用・耐食用表面処理 TiN、TiC、Cr、TiW、Ag、Al